Patent

[11]     Wu Xu, Ji-Guang Zhang, Hao Jia, Xianhui Zhang, Xia Cao, CHAE Sujong, Ran Yi, Qiuyan Li, Won-Jin Kwak, Xiaolin Li, "Electrolytes for lithium batteries with carbon and/or silicon anodes" 미국 특허 등록, US11664536B2

[10]      Ji-Guang Zhang, Ran Yi, Qiuyan Li, CHAE Sujong, Xiaolin Li, Yaobin Xu, Chongmin Wang, "Stabilized porous silicon structure for highly stable silicon anode and methods of making" 미국 특허 출원, US20210122641A1

[9]       채수종, 조재필, 성재경, 박주원, “복합음극활물질, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 음극을 구비한 리튬이차전지(Composite anode active material, a method of preparing the composite anode material, and Lithium secondary battery comprising the composite anode active material)” 국내 특허 등록, KR 10-2051072-0000

[8]       채수종, 조재필, 박승규, “실리콘나이트라이드 음극재 및 이의 제조 방법(Anode materials including Silicon nitride and method for manufacturing thereof)” , 국내 특허 등록, KR 10-1997665-0000

[7]       채수종, 조재필, 고민성, “나노 입자 제조 장치 및 제조 방법(APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING NANO SIZE PARTICLE)”, 국내 특허 등록, KR 10-2038493-0000

[6]       CHAE SUJONG, CHO JAEPHIL, KO MIN SEONG, MA JI YOUNG, KIM NAM HYUNG, “Anode active material for lithium secondary battery, preparation method therefor, and lithium secondary battery containing same”, 미국 특허 등록, US 10340518

[5]        CHAE SUJONG, CHO JAEPHIL, KO MIN SEONG, MA JI YOUNG, KIM NAM HYUNG, “锂 二次 电池 用 阴极 活性 物质 、 其 制备 方法 及 包含 其 的 锂 二次 电池”, 중국 특허 등록, CN 107925064

[4]       채수종, 조재필, 고민성, 마지영, 김남형, “리튬 이차 전지용 음극 활물질, 이의 제조 방법, 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지(NEGATIVE ACTIVE MATERIAL FOR LITHIUM SECONDARY BATTERY, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LITHIUM SECONDARY BATTERY INCLUDING THE SAME)” 국내 특허 등록, KR 10-1933098-0000

[3]        CHAE SUJONG, CHO JAEPHIL, KO MIN SEONG, MA JI YOUNG, KIM NAM HYUNG, “リチウム二次電池用負極活物質、その製造方法、及びそれを含むリチウム二次電池”, 일본 특허 등록, JP 30524774

[2]       채수종, 조재필, 고민성, “리튬 이차 전지용 음극 활물질, 이의 제조 방법, 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지(NEGATIVE ACTIVE MATERIAL FOR RECHARGABLE LITHIUM BATTERY, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND RECHARGABLE LITHIUM BATTERY INCLUDING THE SAME)” 국내 특허 등록, KR 10-1692330-000

[1]       채수종, 조재필, 고민성, “열 화학기상증착 장치 및 열 화학기상증착 방법 (APPARATUS AND METHOD FOR THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION)” 국내 특허 등록, KR 10-1637980-0000